TDK已于 2010年在“CEATEC JAPAN 2010”(10月5～9日，幕张Messe会展中心)上，发布了利用溅射法替代原来的涂布法对ITO层进行成膜的ITO透明导电性薄膜。据TDK介绍，通过导入溅射法，实现了低电阻及高透射率。另外，由于底板采用PET薄膜而非玻璃，还实现了薄型轻量化。目前该公司正利用样品开展受理订单的活动。

　　利用溅射法可实现低电阻及高透射率是“因为ITO的结晶之间的接触性增强”(该公司的解说员)。此次通过导入溅射方式，与原来的涂布方式相比，表面电阻从700Ω/sp降低到了150Ω/sq，同时全光线透射率从89%提高到了92%。TDK打算面向静电容量式触摸面板销售此次开发的ITO透明导电性薄膜。另外，采用原来涂布方式的ITO透明导电性薄膜则定位于面向电阻膜式触摸面板。

　　ITO透明导电性薄膜是通过在PET薄膜上形成ITO层而实现的。不过，此次采用溅射方式的薄膜在PET薄膜与ITO层之间形成了可调整色调及防反射的光学调整层。调整色调时可除去ITO特有的黄色将其调整为无色透明，或者调整为略带有一点蓝色的颜色。这些光学调整层利用涂布法形成。TDK在制造磁记录媒体时积累的涂布技术方面具有优势。该公司打算通过利用该涂布技术形成光学调整层，并导入溅射技术形成ITO从而提高ITO膜的特性，来实现与其他公司的差异化。